拋光盤(pán)轉速對材料表面粗糙度的影響

        圖 4.8 拋光盤(pán)轉速對表面粗糙度的影響

　　如圖 4.8 所示為拋光盤(pán)轉速對材料表面粗糙度的影響。從圖可知拋光盤(pán)轉速在小于 60r/min 時(shí)，表面粗糙度隨拋光盤(pán)轉速的增加而減小，并在 60r/min 時(shí)達到小值 Ra0.028 ，當拋光盤(pán)轉速大于 60r/min 繼 續增加時(shí)，合金表面的粗糙度值增大。因為試驗中拋光液的流量是有限的，在一定范圍內，相同拋光載荷的條件下，拋光盤(pán)轉速增加使得拋光液在拋光墊上的流 動(dòng) 速度增加，因此盤(pán)面上拋光液液膜的支撐力也會(huì )增加，所以為了保持液膜負荷力與拋光壓力相互平衡，拋光液液膜的小厚度增加。

　　同時(shí)，在拋光液膜小厚度相同的情況下，拋光盤(pán)轉速的增加，使得拋光液動(dòng)壓效應增強，液膜所承受的負荷力增大，所以為了使拋光液膜能在所受載荷不變的 條 件下達到受力的平衡，只有通過(guò)加大拋光液流場(chǎng)內液膜厚度的方式來(lái)減小液膜負荷力，同時(shí)也使得小拋光液膜厚度增加。而當拋光盤(pán)轉速過(guò)大時(shí)，拋光液在盤(pán) 面上 受到的離心力增大，部分拋光液未到達拋光區域即被甩出拋光盤(pán)面，導致拋光區域液膜的拋光液供應不足，同時(shí)此時(shí)拋光壓力的作用使得樣品與拋光墊之間的 間隙尺 寸很小，拋光液的補充更加困難。所以過(guò)高的拋光盤(pán)轉速，使拋光液膜分布不均勻，拋光后表面質(zhì)量變差。試驗還發(fā)現當拋光盤(pán)轉速過(guò)大時(shí)，拋光盤(pán)盤(pán)面抖 動(dòng)較大， 機床穩定性較差，也不利于得到完美的表面。因此，兼顧多種因素，平面拋光過(guò)程中的拋光盤(pán)轉速應該操控在 60r/min 左右比較合適。